主要优点
主要优点
PICOSUN™R-200标准型ALD系统是ALD科研
设备市场的领导者。它已经成为一些创新公司
和研究机构的必备研发工具。
灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超
灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和
应用。专利的热壁设计、完全独立的前驱体管
路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛
应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的
材料。即使在最具挑战性的多孔材料、超高深
宽比和纳米颗粒表面沉积，系统都能实现极
好的均匀性，这些都归功于我们的专利技术
Picoflow™。Picosun™R-200标准型系统配备功
能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体
源。系统可集成手套箱，粉末反应腔和各种在
线分析系统，使您的研究变得高效和灵活。即
使将来您改变研究领域，它仍然会是您最好
的帮手！
PICOSUN™R-200标准型ALD系统是ALD科研
设备市场的领导者。它已经成为一些创新公司
和研究机构的必备研发工具。
灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超
灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和
应用。专利的热壁设计、完全独立的前驱体管
路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛
应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的
材料。即使在最具挑战性的多孔材料、超高深
宽比和纳米颗粒表面沉积，系统都能实现极
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Picoflow™。Picosun™R-200标准型系统配备功
能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体
源。系统可集成手套箱，粉末反应腔和各种在
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使将来您改变研究领域，它仍然会是您最好
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